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    Rio de Janeiro sediará segunda edição de simpósio sobre futuro do trabalho

    Atividade acontece no dia 21 de março e reúne especialistas em transformações do trabalho no Brasil. Inscrições são gratuitas e vão até 15 de março.

    Com o objetivo de discutir questões teóricas e práticas sobre os impactos da revolução digital no mundo do trabalho e na sociedade, a Escola Superior do Ministério Público da União (ESMPU) promoverá no dia 21 de março, no Rio de Janeiro (RJ), o Simpósio “Futuro do Trabalho: os Efeitos da Revolução Digital na Sociedade”.

    O simpósio terá dois painéis de discussão nos quais serão abordados assuntos como as formas de contratação do trabalhador na prestação de serviços sob plataformas digitais, as perspectivas de futuro do mercado de trabalho sob o ângulo socioeconômico e as políticas públicas de proteção.

    Como debatedores, estarão presentes nomes como o doutor em Direitos Humanos e Cidadania Leonardo Vieira Wandelli, a desembargadora do Tribunal Regional do Trabalho da 3ª Região Maria Cecília Alves e o doutor em Economia pela Université de Paris Patrick Dieuaide.

    Os interessados podem se inscrever até as 12h do dia 15 de março, pelo link “Inscrição e Resultados” do endereço http://escola.mpu.mp.br. O resultado sai às 15h deste mesmo dia.

    Será emitido certificado ao participante que obtiver frequência mínima de 85%.

    Confira a programação completa.

    Atividade: Simpósio “Futuro do trabalho: os efeitos da quarta revolução industrial na sociedade” Data: 21 de março

    Inscrição: até as 12h do dia 15 de março

    Local: Auditório da Procuradoria da República no Rio de Janeiro (Av. Nilo Peçanha, 31 – Centro)Vagas: 30 para membros do MPU, 30 para servidores do MPU e 40 para público externo

    Mais informações podem ser obtidas no edital.

    Assessoria de Comunicação • Ministério Público do Trabalho no Rio de Janeiro (MPT-RJ)

    (21) 3212-2121 • (21) 9 9423-7936
    prt01.ascom@mpt.mp.br
    prt1.mpt.mp.br | Twitter: @MPTRJOficial | Facebook: MPTRJ.Oficial

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